Zirkoniové granule

Zirkonové pelety s vysokou{0}}čistotou: zdroj čistoty pro velkoplošné-vysokopodtlakové potahování-a speciální tavení.

V procesu vakuového napařování optických tenkých vrstev, nanášení polovodičových bariérových vrstev a tavení speciálních super{0}}slitin mikroskopická čistota a morfologická konzistence materiálů přímo určují výtěžnost konečného produktu. Vysoce čisté zirkoniové pelety (granule zirkonia) se svou vynikající objemovou hustotou, nízkou-rychlostí plynování a chemickou inertností oproti konvenčním kovům se stávají nepostradatelným „zdrojem zlata“ ve světově špičkových-potahovacích a tavicích procesech.

1. Základní výkon: fyzická kolize mezi samoopravovací ochranou a úsporou tepelných neutronů

Částice zirkonia (Zr) vykazují jedinečnou estetiku materiálu v mikroskopické morfologii:

Vynikající vakuová stabilita: Zirkonium má vysokou teplotu tání (~ 1852 stupňů) a extrémně nízký tlak par při vysokých teplotách, což zajišťuje extrémně vysokou hydrodynamickou stabilitu při použití jako odpařovací materiál v ultra-vysokém vakuu.

Extrémně nízká-rychlost plynování a nízká: Částice zirkonia, které byly hluboce odplyněny, se mohou účinně vyhnout „výbuchu“ nebo „plivání“ způsobenému uvolňováním stopových plynů uvnitř, když jsou bombardovány elektronovým paprskem nebo zahřívány odporem, čímž je zajištěna rovnoměrnost tvorby filmu.

Bezkonkurenční odolnost proti korozi: Přirozený pasivační film ZrO2 v nanoměřítku vytvořený na povrchu je zcela bez vlhkosti a eroze na bázi kyseliny- během skladování a přepravy.

2. Kontrola chemických nečistot

Prvky škodlivých plynů (O, N, H) a prvky přechodných kovů (Fe, Ni, Cr) jsou regulovány na velmi nízké prahové hodnoty pomocí vakuového tavení elektronovým paprskem a technologie přesného střihu.

Stupeň čistoty	Zr + Hf (%)	Hf (%)	Fe + Cr (ppm)	O (ppm)	N (ppm)	H (ppm)
Průmyslová třída (R60702)	Větší než nebo rovno99.2	Menší nebo rovno4.5	Menší nebo rovno2000	Menší nebo rovno1600	Menší nebo rovno250	Menší nebo rovno50
Elektrický/jaderný stupeň(R60704)	Větší než nebo rovno99.5	Menší nebo rovno0.01	Menší nebo rovno1500	Menší nebo rovno1000	Menší nebo rovno150	Menší nebo rovno25
Ultra vysoký stupeň (4N)	Větší než nebo rovno99.99	Menší nebo rovno0.005	Menší nebo rovno50	Menší nebo rovno200	Menší nebo rovno30	Menší nebo rovno10

Technické normy: Přísně srovnávejte normy ASTM B550/B550M a související specifikace polovodičových -vysoko{3}}kvalitních materiálů.

3. Štíhlý proces: od hustých krystalů po vysoce sbalené částice

Vícestupňové vakuové tavení elektronovým paprskem (VIM/EBM): Opakovaně čistěte zirkoniové ingoty, aby byly zcela vyloučeny nečistoty a plyny s nízkým bodem varu.

Tažení za studena a -bezolejové stříhání: zirkoniové ingoty o vysoké{1}}čistotě se zpracovávají na drátěné tyče se specifickými průměry a poté se kvantitativně řežou speciálními diamantovými střižnými hranami.

Celý proces eliminuje jakákoli uhlovodíková maziva, aby se zabránilo znečištění uhlíkem.

Ultrazvukové čištění povrchu: více{0}}průchodové chemické moření a ultrazvukové mytí deionizovanou vodou se používají k zajištění toho, že povrch částic dosáhne stavu „nulového zbytku“.

4. Specifikace produktu a základní informační parametry

Abychom odpovídali různým velikostem výparníku, kelímku a pece, nabízíme různé standardní specifikace:

Konvenční specifikace (průměr x délka):

φ 3 mm x φ 3 mm (nejběžněji používané pro odpařování elektronového paprsku)

φ 6mm x φ 6mm

φ10 mm x φ 10 mm (vhodné pro vysokokapacitní tavení a přidávání)

Tvar zrna: pravidelné válcovité pelety nebo pravidelné granule/zrna.

Balení: 100% argonová náplň, anti-statický vakuový dvou{2}}vrstvý plastový sáček, každý sáček 1kg nebo 5kg.

5. Povrchová úprava: vysoký jas a průmyslové měřítko s nulovým obsahem uhlíku

Bright Cleaned: Povrch částic představuje zářivě stříbrný-šedý kovový lesk, který zcela odstraňuje zbytky mechanického pnutí a povrchovou vrstvu bohatou na kyslík-.

Sušení ve vysokém vakuu: 10-4 Pa vakuové sušení před balením, aby se zabránilo ulpívání stop vlhkosti.

6. Hlavní výhody produktu: Proč technici pro odpařování upřednostňují naše zirkoniové částice?

Vynikající hustota balení (hustota balení): Díky běžnému designu válce je hustota balení v odpařovací lodi nebo kelímku o více než 25 % vyšší než u nepravidelného odpadu a vedení tepla je rovnoměrnější.

Technologie řízení jaderného-hafnia (Low{1}}Hf Control): Pro speciální požadavky na optickou a atomovou energii můžeme komprimovat přírodní symbiotický prvek hafnia (Hf) pod 50 ppm, abychom zajistili, že průřez neutronů a optická propustnost jsou ve zlaté rovnováze.

Dokonalá stabilita vsázky: Stabilní geometrie zajišťuje, že fokus a výkonová křivka bombardování elektronovým paprskem nejsou vyžadovány po každém podávání, což výrazně zlepšuje provozní výnos automatizované lakovací linky.

7. Oblasti použití: špičkové-návrhy

Optické vakuové potahování: výroba anti{0}}reflexních fólií, filtrů, vysokých reflektorů a antikorozních tvrdých ochranných fólií (jako je prekurzor zirkoniových optických fólií).

Polovodiče a elektronické součástky: jako odpařovací zdroje pro rozprašovací terče v integrovaných obvodech (IC) a pokročilém balení nebo jako anti{0}}difúzní bariéry.

Tavení speciálních super{0}}slitin: Jako přesné aditivum pro titanové slitiny, nikl-super-slitiny a supravodivé materiály.

Getrový materiál: Jako vysoce{0}}účinný getr ve vysoce-vakuových elektronových trubicích a ultra-vakuových dutinách k absorbování zbytkových stopových nečistot plynů.